PCE-80 8.5英寸等離子清洗機是一款較大型的等離子清洗機，等離子腔體為 8.5 “dia x 12““L的石英腔體，采用的射頻電源功率0 - 100W連續可調節。此款設備主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物，同時也可改變物體表面的性質（如親水和疏水性等）。對于基片的清洗以及薄膜處理此款設備是較為理想的實驗幫手。

PCE-500W 500W等離子刻蝕清洗機是一款較大型的500W等離子刻蝕清洗機，等離子腔體為 8.5 “dia x 14.4“L的石英腔體，采用的射頻電源頻率為13.56MH，功率0 -500W連續可調節。此款設備功率高，可用于等離子刻蝕、等離子灰化、表面改性以及材料摻雜改性等應用，對于基片的清洗以及薄膜處理此款設備是較為理想的實驗幫手。

GSL-1100X-PJF 等離子表面處理儀是一款緊湊的大氣離子表面處理噴射系統，主要由射頻發生器、離子束頭組成。噴射的離子束流能在較低的溫度和沒有真空條件下，迅速活化和清理材料表面。例如單晶片、光學元件、塑料等廣泛的材料。 為了獲得高質量的外延薄膜或者光學涂層，預*行表面處理可以得到顯著的效果。

GSL-1100X-PJF-A是等離子槍和可控制的樣品臺結合在一起的產品，有自動控制的樣品臺，就可使等離子槍按設定程序對樣品表面進行更均勻涂覆和處理，保證處理樣品表面的*性和均勻性。此系統是由RF發生器、氣體傳輸管、等離子槍頭和X-Y移動的工作臺（帶有真空吸盤和控制盒）。此系統產生等離子束可在非真空和低溫狀態下活化和清洗樣品表面，可處理的樣品有單晶片，光學元件和塑料等，也可在常壓下進行等離子增強

PCE-05石英真空等離子清洗機石英圓形真空腔體，腔體處理溫度低，避免長時間等離子處理造成的腔體溫度過高，確保對樣品表面沒有造成熱影響。 電源：采用*電源電路技術，產生高密度等離子體，確保出眾的清洗效果，頻率13.56MHZ,功率0-600W連續調節,自動阻抗匹配。 放電技術：特殊處理及特殊結構的放電裝置，確保形成穩定均勻的等離子體。